‌Kokie skirtumai tarp silicio nitrido substrato ir substrato?

Pagrindiniai skirtumai tarpSilicio nitrido substratasir substratas yra jų apibrėžimai, naudojimas ir charakteristikos. ‌

1. Apibrėžimas ir naudojimas

‌Silicon nitrido substratas‌:Silicio nitrido substratasyra keraminė medžiaga, daugiausia naudojama gaminant galios puslaidininkių įtaisus, ypač galios modulius. Jis turi aukštą šilumos laidumą, didelį mechaninį stiprumą ir gerą šiluminį atitikimą, ir yra tinkamas pritaikymo scenarijams, kuriems reikalingas didelis patikimumas ir atsparumas aukštai temperatūrai. ‌Substrate‌: substratas paprastai reiškia pagrindinę atraminę struktūrą, naudojamą lustų gamybai. Įprastos substrato medžiagos yra vieno krištolo silicio plokštelės, SOI substratai, SIGE substratai ir kt. Substrato pasirinkimas priklauso nuo konkrečių taikymo reikalavimų, tokių kaip integruotos grandinės, mikroprocesoriai, atmintis ir kt. ‌

2. Charakteristikų palyginimas ‌

Silicio nitrido substratas

Didelis šilumos laidumas‌: Silicio nitrido šilumos laidumas yra net 80 W/m · k ar daugiau, o tai tinka didelės galios prietaisų šilumos išsklaidymo poreikiams. ‌ Aukštas mechaninis stiprumas ‌: Jis turi aukštą lenkimo stiprumą ir aukštą lūžių tvirtumą, užtikrinantį jo aukštą patikimumą. ‌ ‌ Šilumos išsiplėtimo koeficientas atitinka ‌: Jis yra labai panašus į SIC kristalų substratą, užtikrinantį stabilų atitiktį tarp dviejų ir padidinant bendrą patikimumą ‌.

Substratas ‌

Įvairūs tipai ‌: įskaitant vieno kristalų silicio plokšteles, SOI substratą, SIGE substratą ir kt., Kiekviena substrato medžiaga turi savo specifinį taikymo lauką ir efektyvumo pranašumus ‌.

‌ Visame naudojimo asortimente ‌: naudojamas įvairių tipų lustų ir įrenginių, tokių kaip integruotos grandinės, mikroprocesoriai, atmintis ir kt., Gaminti.

3. Taikymo scenarijai

‌Silicon nitrido substratas ‌: daugiausia naudojamas didelės galios prietaisams laukuose, tokiuose kaip naujos energetinės transporto priemonės ir modernūs transportavimo takai. Dėl puikaus šilumos išsklaidymo, mechaninio stiprumo ir stabilumo jis tinka didelio patikimumo reikalavimams sudėtingoje aplinkoje ‌.

‌Substratas ‌: Plačiai naudojamas įvairiose lustų gamyboje, o konkrečios programos priklauso nuo substrato tipo. Pvz., Vieno kristalų silicio plokštelės yra plačiai naudojamos gaminant integruotas grandines ir mikroprocesorius, SOI substratai yra tinkami didelio našumo, mažos galios integruotos grandinės, o SIGE substratai naudojami heterojunkciniams dvipusiams tranzistoriams ir mišrioms signalo grandinėms ir tt ‌ ‌.